Substrat LiAlO2
Description
LiAlO2 est un excellent substrat cristallin en film.
Propriétés
| Structure en cristal | M4 |
| Constante de cellule unitaire | a=5,17 A c=6,26 A |
| Point de fusion (℃) | 1900 |
| Densité (g/cm)3） | 2,62 |
| Dureté (Mho) | 7.5 |
| Polissage | Simple ou double ou sans |
| Orientation des cristaux | ＜100＞ ＜001> |
La définition du substrat LiAlO2
Le substrat LiAlO2 fait référence à un substrat en oxyde d'aluminium et de lithium (LiAlO2).LiAlO2 est un composé cristallin appartenant au groupe spatial R3m et possède une structure cristalline triangulaire.
Les substrats LiAlO2 ont été utilisés dans diverses applications, notamment la croissance de couches minces, les couches épitaxiales et les hétérostructures pour les dispositifs électroniques, optoélectroniques et photoniques.En raison de ses excellentes propriétés physiques et chimiques, il est particulièrement adapté au développement de dispositifs semi-conducteurs à large bande interdite.
L'une des principales applications des substrats LiAlO2 concerne le domaine des dispositifs à base de nitrure de gallium (GaN), tels que les transistors à haute mobilité électronique (HEMT) et les diodes électroluminescentes (DEL).Le décalage de réseau entre LiAlO2 et GaN est relativement faible, ce qui en fait un substrat approprié pour la croissance épitaxiale de films minces de GaN.Le substrat LiAlO2 fournit un modèle de haute qualité pour le dépôt de GaN, ce qui améliore les performances et la fiabilité du dispositif.
Les substrats LiAlO2 sont également utilisés dans d'autres domaines tels que la croissance de matériaux ferroélectriques pour les dispositifs de mémoire, le développement de dispositifs piézoélectriques et la fabrication de batteries à semi-conducteurs.Leurs propriétés uniques, telles qu'une conductivité thermique élevée, une bonne stabilité mécanique et une faible constante diélectrique, leur confèrent des avantages dans ces applications.
En résumé, le substrat LiAlO2 fait référence à un substrat en oxyde d'aluminium et de lithium.Les substrats LiAlO2 sont utilisés dans diverses applications, notamment pour la croissance de dispositifs à base de GaN et le développement d'autres dispositifs électroniques, optoélectroniques et photoniques.Ils possèdent des propriétés physiques et chimiques souhaitables qui les rendent adaptés au dépôt de films minces et d'hétérostructures et améliorent les performances des dispositifs.
